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一种利用夹层Ta难熔金属提高NiSi薄膜热稳定性的新方法
一种利用夹层Ta难熔金属提高NiSi薄膜热稳定性的新方法
A Thin Tantalum Interlayer on the Thermal Stability and Electrical of NiSi Film
- 电子学报 2011年39卷第11期 页码：2502-2506
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